3.光刻機競爭格局
目前,光刻機市場競爭格局明確,主要由阿斯麥(ASML)、日本尼康和佳能三家把持,其中ASML更是全球絕對龍頭,市占率83.3%,幾乎壟斷了高端光刻機(EUV)市場。日本尼康和佳能產(chǎn)品主要為中低端機型。國產(chǎn)光刻機領(lǐng)域中,上海微電子(SMEE)一枝獨秀。
國產(chǎn)光刻機市場前景廣闊,同時,為了避免在芯片產(chǎn)能爬坡時被外界的設(shè)備供應(yīng)給“卡脖子”,國產(chǎn)光刻機正在逐步突破。近年來,我國科技取得了巨大突破,五年內(nèi)有望解決高端芯片短缺問題。
數(shù)據(jù)來源:SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
4.光刻機重點企業(yè)
全球光刻機市場主要由荷蘭的ASML、日本尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家占據(jù)。如今雖然ASML正逐漸解除對華產(chǎn)品的禁售,但EUV這類的頂尖光刻機由于產(chǎn)能有限。
上海微電子深耕光刻機產(chǎn)品研發(fā),承擔(dān)多項專項科研任務(wù)。目前公司光刻機產(chǎn)品主要包括IC前道光刻機、IC后道封裝光刻機、面板前道光刻機、面板后道封裝光刻機。作為國內(nèi)光刻機設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)航者,上海微電子承擔(dān)著國產(chǎn)光刻機設(shè)備的希望,若能實現(xiàn)光刻機設(shè)備的國產(chǎn)化,中國大力發(fā)展的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)必將邁上一個新臺階。
資料來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理