【聚焦風(fēng)口行業(yè)】國(guó)產(chǎn)化加快步伐 光刻機(jī)發(fā)展前景分析
來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期:2023-04-07 17:34
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中商情報(bào)網(wǎng)訊:光刻機(jī)作為芯片產(chǎn)業(yè)的核心裝備,是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。2023年3月8日荷蘭政府發(fā)布光刻機(jī)新出口管制,ASML需要申請(qǐng)出口許可,才能裝運(yùn)最先進(jìn)的浸沒(méi)式DUV系統(tǒng)。為了避免在芯片產(chǎn)能爬坡時(shí)被外界的設(shè)備供應(yīng)給“卡脖子”,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)正在加快突破。

一、光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

1.光刻機(jī)銷(xiāo)量

全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)復(fù)蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,相關(guān)芯片的需求增加。2021年全球集成電路、面板、LED用光刻機(jī)出貨約650臺(tái),較2020年增加70臺(tái)。其中集成電路制造用光刻機(jī)出貨約500臺(tái);面板、LED用光刻機(jī)出貨約150臺(tái)。2021年全球光刻機(jī)銷(xiāo)量為450臺(tái),隨著下游市場(chǎng)需求持續(xù)升高,預(yù)計(jì)2023全球市場(chǎng)仍將持續(xù)增長(zhǎng),銷(xiāo)量將超550臺(tái)。

數(shù)據(jù)來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2.光刻機(jī)成本占比

光刻機(jī)可用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試,實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝,技術(shù)難度相對(duì)較小。2021年全球前道光刻設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為172億美元,其市場(chǎng)份額在晶圓生產(chǎn)設(shè)備中占比為20%,僅次于蝕刻設(shè)備。光刻機(jī)價(jià)格昂貴,ASML當(dāng)前EUV光刻機(jī)單價(jià)為1.5億-2億美元。

數(shù)據(jù)來(lái)源:SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

3.光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局

全球光刻機(jī)市場(chǎng)的主要競(jìng)爭(zhēng)者為ASML、Nikon和Canon。2022年三大企業(yè)光刻機(jī)營(yíng)收合計(jì)接近200億美元,合計(jì)市場(chǎng)份額超過(guò)90%。其中,ASML光刻機(jī)營(yíng)收約161億美元,較2021年增長(zhǎng)了23%,Canon光刻機(jī)營(yíng)收約為20億美元,Nikon光刻機(jī)業(yè)務(wù)營(yíng)收約15億美元。ASML在全球光刻機(jī)TOP3市場(chǎng)份額占比82.1%,占絕對(duì)龍頭地位。

從產(chǎn)品出貨類(lèi)型來(lái)看,ASML在超高端光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大,如EUV、ArFi等類(lèi)型光刻機(jī),產(chǎn)品眾多;Canon與Nikon產(chǎn)品部分光刻機(jī)用于面板業(yè),部分用于半導(dǎo)體,Canon目前產(chǎn)品集中于特定工藝領(lǐng)域的i-Line和KrF設(shè)備,Nikon擁有除了EUV以外的所有類(lèi)型光刻機(jī)產(chǎn)品,出貨量少于前兩家。

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