中商情報網(wǎng)訊：近年來，國內(nèi)科技領域取得了長足的發(fā)展，尤其是在半導體領域的國產(chǎn)化方面取得重要突破。在國家安全、卡脖子壓力以及中國市場需求的推動下，半導體設備需求日益增長。國內(nèi)全產(chǎn)業(yè)鏈大力配合支持，半導體設備研發(fā)工作相比此前大幅提速，半導體設備國產(chǎn)化率的穩(wěn)步提升。

半導體設備市場規(guī)模保持增長

半導體設備是半導體產(chǎn)業(yè)的先導性、基礎產(chǎn)業(yè)，具有技術壁壘高、研發(fā)周期長、研發(fā)投入高、制造難度大、設備價值高、客戶驗證壁壘高等特點，是半導體產(chǎn)業(yè)中最難攻克卻至關重要的一環(huán)。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2017-2027全球及中國半導體設備行業(yè)深度研究報告》顯示，2022年中國半導體設備規(guī)模約為2745.15億元，同比增長37.72%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，2023年中國大陸半導體市場規(guī)模將達3032億元。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

半導體設備細分市場

1.光刻機銷量穩(wěn)定提升

全球半導體設備行業(yè)復蘇，受益于下游晶圓巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的發(fā)展，相關芯片的需求增加。2021年全球光刻機銷量為450臺，2022年約為510臺，隨著下游市場需求持續(xù)升高，預計2023全球市場仍將持續(xù)增長，銷量將超550臺。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2.刻蝕機市場規(guī)模保持增長

刻蝕機主要用來制造半導體器件、光伏電池及其他微機械等。近年來，全球刻蝕機市場規(guī)模呈增長趨勢。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2017-2027全球及中國半導體設備行業(yè)深度研究報告》顯示，2019-2022年，全球刻蝕機市場規(guī)模由115億美元增至139.9億美元，復合年均增長率達6.8%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，2023年全球刻蝕機市場規(guī)模將達148.2億美元。

數(shù)據(jù)來源：Gartner、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

3.涂膠顯影設備持續(xù)擴大

涂膠/顯影機作為光刻機的輸入和輸出設備，主要通過機械手使晶圓在各系統(tǒng)之間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅膜等工藝過程，是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵處理設備。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2017-2027全球及中國半導體設備行業(yè)深度研究》報告顯示，2021年中國涂膠顯影設備市場規(guī)模達9.4億元，同比增長21.7%，2022年市場規(guī)模約為11.1億元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，2023年市場規(guī)模將達12.8億元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理