5.涂膠顯影設(shè)備
(1)市場(chǎng)規(guī)模
隨著下游終端需求的擴(kuò)大,涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)顯著。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)供需格局及發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告》數(shù)據(jù)顯示,2022年中國(guó)涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為11.1億元,同比增長(zhǎng)18.1%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測(cè),2024年我國(guó)涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模將增至15.3億元。
數(shù)據(jù)來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
(2)競(jìng)爭(zhēng)格局
在我國(guó)涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)中,東京電子占據(jù)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)91%市場(chǎng)份額,DNS占據(jù)5%的市場(chǎng)份額,國(guó)內(nèi)芯源微僅占據(jù)4%市場(chǎng)份額,國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊。
數(shù)據(jù)來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
6.半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率
中國(guó)設(shè)備產(chǎn)業(yè)未來(lái)10年,第一步將迎接中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)設(shè)備投資需求成倍地增長(zhǎng),我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化已取得一定進(jìn)展,在去膠、CMP、刻蝕和清洗設(shè)備市場(chǎng)的國(guó)產(chǎn)化率已突破雙位數(shù),成長(zhǎng)邊界不斷拓寬。光刻機(jī)、量測(cè)檢測(cè)設(shè)備、離子注入機(jī)和涂膠顯影設(shè)備等領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)化率仍在 10%以下,國(guó)產(chǎn)化率較低。
資料來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理