2020年第三代半導(dǎo)體材料之碳化硅(SiC)應(yīng)用現(xiàn)狀及前景分析(附產(chǎn)業(yè)鏈)
來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期:2020-09-21 11:20
分享:

中商情報(bào)網(wǎng)訊:近年來(lái),以碳化硅為代表的第三代半導(dǎo)體材料在禁帶寬度、擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度、飽和電子漂移速率、熱導(dǎo)率以及抗輻射等關(guān)鍵參數(shù)方面具有顯著優(yōu)勢(shì),進(jìn)一步滿足了現(xiàn)代工業(yè)對(duì)高功率、高電壓、高頻率的需求。以碳化硅為襯底制成的功率器件相比硅基功率器件具有優(yōu)越的電氣性能,具體如下:

資料來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

正是由于碳化硅器件具備的上述優(yōu)越性能,可以滿足電力電子技術(shù)對(duì)高溫、高功率、高壓、高頻及抗輻射等惡劣工作條件的新要求,從而成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域最具前景的材料之一。

第三代半導(dǎo)體材料中,受技術(shù)與工藝水平限制,氮化鎵材料作為襯底實(shí)現(xiàn)規(guī)模化應(yīng)用仍面臨挑戰(zhàn),其應(yīng)用主要是以藍(lán)寶石、硅晶片或碳化硅晶片為襯底,通過(guò)外延生長(zhǎng)氮化鎵以制造氮化鎵器件。相比而言,近年來(lái)碳化硅晶片作為襯底材料的應(yīng)用逐步成熟并進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化階段,以碳化硅晶片為襯底的下游產(chǎn)業(yè)鏈圖示如下:

資料來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

如發(fā)現(xiàn)本站文章存在版權(quán)問(wèn)題,煩請(qǐng)聯(lián)系editor@askci.com我們將及時(shí)溝通與處理。
中商情報(bào)網(wǎng)
掃一掃,與您一起
發(fā)現(xiàn)數(shù)據(jù)的價(jià)值
中商產(chǎn)業(yè)研究院
掃一掃,每天閱讀
免費(fèi)高價(jià)值報(bào)告
?