四、中游分析
1.碳化硅功率器件
碳化硅器件工藝技術(shù)水平還比較低,這是制約碳化硅功率器件發(fā)展和推廣實現(xiàn)的技術(shù)瓶頸,特別是高溫大劑量高能離子注入工藝、超高溫退火工藝、深槽刻蝕工藝和高質(zhì)量氧化層生長工藝尚不理想,使得碳化硅功率器件中存在不同程度的高溫和長期工作條件下可靠性低的缺陷。
在碳化硅功率器件測試方面,碳化硅器件測試設(shè)備、測試方法和測試標(biāo)準(zhǔn)基本沿用硅器件的測試方法,導(dǎo)致碳化硅器件動態(tài)特性、安全工作區(qū)等測試結(jié)果不夠準(zhǔn)確,缺乏統(tǒng)一的測試評價標(biāo)準(zhǔn)。
同時,碳化硅芯片主要的工藝設(shè)備基本上被國外公司所壟斷,特別是高溫離子注入設(shè)備、超高溫退火設(shè)備和高質(zhì)量氧化層生長設(shè)備等,國內(nèi)大規(guī)模建立碳化硅工藝線所采用的關(guān)鍵設(shè)備基本需要進(jìn)口。
2.碳化硅功率模塊
當(dāng)前碳化硅功率模塊主要有引線鍵合型和平面封裝型兩種。為了充分發(fā)揮碳化硅功率器件的高溫、高頻優(yōu)勢,必須不斷降低功率模塊的寄生電感、降低互連層熱阻,并提高芯片在高溫下的穩(wěn)定運行能力。碳化硅功率模塊的封裝工藝和封裝材料基本沿用了硅功率模塊的成熟技術(shù),在焊接、引線、基板、散熱等方面的創(chuàng)新不足,功率模塊雜散參數(shù)較大,可靠性不高。
目前碳化硅器件高溫、高功率密度封裝的工藝及材料尚不完全成熟。為了發(fā)揮碳化硅功率器件的高溫優(yōu)勢,必須進(jìn)一步研發(fā)先進(jìn)燒結(jié)材料和工藝,在高溫、高可靠封裝材料及互連技術(shù)等方面實現(xiàn)整體突破。
3.重點企業(yè)分析
資料來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理