3.高性能濺射靶材
高性能濺射靶材是制備半導體晶圓、顯示面板等表面電子薄膜的關鍵材料,應用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝。在國家政策支持以及下游眾多應用領域需求的支撐下,高性能濺射靶材市場規(guī)模不斷擴大。數據顯示,中國高性能濺射靶材市場規(guī)模由2016年的98.9億元增長至2020年的201.5億元,年均復合增長率為19.5%。預計2022年將達288.1億元。
數據來源:中商產業(yè)研究院整理
4.光刻機
光刻機是制造芯片的核心裝備。目前,光刻機市場是典型的“三分天下”格局。ASML、尼康(Nikon)、佳能(Canon)市場占有率超過90%,是典型的寡頭壟斷市場,而ASML更是壟斷最高端的極紫外(EUV)光刻機市場。Nikon與Canon分別占據10.4%和10.2%的市場份額
數據來源:中商產業(yè)研究院整理
資料來源:中商產業(yè)研究院整理
此外,上海微電子是中國技術最領先的光刻設備廠商,主要產品是SSX600系列步進掃描投影光刻機,可滿足集成電路前道制造90nm、110nm和280nm光刻工藝需求,可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產。