中商情報(bào)網(wǎng)訊：濺射靶材是指通過磁控濺射等鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路、平面顯示、太陽能電池、信息存儲(chǔ)、低輻射玻璃等領(lǐng)域，是國(guó)家重點(diǎn)支持和鼓勵(lì)發(fā)展的行業(yè)。
一、濺射靶材行業(yè)概況
1.濺射靶材的定義
濺射靶材是指通過磁控濺射等鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
濺射靶材主要由靶坯和背板構(gòu)成。靶坯系射靶材中的核心部分，是濺射鍍膜過程中高動(dòng)能離子束流轟擊的目標(biāo)材料，靶坯被離子撞擊后，表面的原子被濺射出來并沉積于基板表面形成薄膜。背板主要用于固定支撐靶坯材料、導(dǎo)熱、導(dǎo)電，一般由金屬材料制成，因?yàn)R射靶材需安裝在專用的濺射鍍膜設(shè)備內(nèi)完成濺射過程，設(shè)備內(nèi)部為高電壓、高真空的工作環(huán)境,多數(shù)靶坯的材質(zhì)較軟、脆性高、導(dǎo)電導(dǎo)熱性較差等,不適合直接安裝在設(shè)備內(nèi)使用，因此需與背板綁定。
2.濺射靶材的分類
濺射靶材必須配套專用的濺射鍍膜設(shè)備方可進(jìn)行濺射鍍膜。濺射靶材按形狀可分為平面靶和旋轉(zhuǎn)靶；根據(jù)是否需要綁定背板或背管，可分為一體靶和綁定靶。
資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
3.濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域
作為各類薄膜工業(yè)化制備的關(guān)鍵材料，濺射靶材廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路、平面顯示、太陽能電池、信息存儲(chǔ)、低輻射玻璃等領(lǐng)域,各應(yīng)用領(lǐng)域?qū)R射靶材的制備技術(shù)、產(chǎn)品性能等要求各異。
資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
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