二、產(chǎn)業(yè)鏈上游
碳化硅在半導(dǎo)體器件領(lǐng)域中是第三代半導(dǎo)體材料代表之一,從碳化硅器件的制造成本結(jié)構(gòu)來看,襯底成本最大,占比達(dá)47%;其次是外延成本,占比為23%。這兩大工序是SiC器件的重要組成部分。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
1.碳化硅襯底
碳化硅襯底是一種由碳和硅兩種元素組成的化合物半導(dǎo)體單晶材料,具備禁帶寬度大、熱導(dǎo)率高、臨界擊穿場強(qiáng)高、電子飽和漂移速率高等特點(diǎn)。根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域不同,可分類為導(dǎo)電型和半絕緣型。
在半絕緣型碳化硅襯底方面,2020年全球半絕緣型碳化硅襯底市場集中度較高,美國的Wolfspeed、II-IV以及國內(nèi)山東天岳三家獨(dú)大,占比合計(jì)高達(dá)98%。
數(shù)據(jù)來源:Yole,Wolfspeed,勢銀(TrendBank)、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
在導(dǎo)電型碳化硅襯底方面,2020年全球?qū)щ娦吞蓟枰r底美國的Wolfspeed一家獨(dú)大,市占率高達(dá)62%,II-VI、SiCrystal、SKSiltron、天科合達(dá)等等企業(yè)瓜分剩余市場。
數(shù)據(jù)來源:Yole,Wolfspeed,勢銀(TrendBank)、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理