二、上游分析
1.濺射靶材
隨著全球半導體行業(yè)景氣度向上,晶圓廠資本開支持續(xù)走高,以高純靶材為代表的半導體材料需求持續(xù)旺盛。市場需求不斷釋放,濺射靶材行業(yè)規(guī)模將進一步擴大。在應用需求帶動下,我國濺射靶材市場規(guī)模不斷擴大。2021年我國濺射靶材市場規(guī)模達375.8億元,同比增長9.7%。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
2.電子特氣
近年來,國內(nèi)廠商抓住行業(yè)發(fā)展機遇,在政策利好與需求升級的雙輪驅(qū)動下,中國電子特氣市場呈現(xiàn)高速增長的狀態(tài)。中國電子特氣市場規(guī)模由2017年的114億元增長至2021年的216億元,復合年均增長率達17.32%。中商產(chǎn)業(yè)研究院預測,2022年我國電子特氣市場規(guī)模將達231億元。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
3.光刻機
受益于下游需求旺盛,光刻設備有望量價齊升帶動市場空間不斷增長。全球半導體設備行業(yè)復蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的發(fā)展,帶動相關芯片的需求,2020年光刻機銷售額與銷量增速穩(wěn)定提升。2020年全球光刻機銷量為413臺,總銷售額為413億元,隨著下游市場需求持續(xù)升高,預計2022全球市場仍將持續(xù)增長,銷售額預計將達153億元,銷量將達510臺。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
4.重點企業(yè)分析
資料來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理