2021年中國光刻機行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上中下游市場分析（附產(chǎn)業(yè)鏈全景圖）
來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期：2021-03-23 16:59
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二、上游分析

1.主要組件

光刻機生產(chǎn)制造的技術(shù)要求極高，ASML一臺光刻機包含了10萬個零部件，需要40個標準集裝箱才能裝下，涉及到上游5000多家供應商，比如德國的光學設備與超精密儀器，美國的計量設備與光源等。一臺光刻機的主要部件包含測量臺與曝光臺、激光器、光束矯正器、能量控制器等11個模塊。

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2.光源

高端光刻機含有上萬個零部件，而光學鏡片則是核心部件之一，高數(shù)值孔徑的鏡頭決定了光刻機的分辨率以及套值誤差能力；光源則是高端光刻機另一核心部件，光源波長決定了光刻機的工藝能力。光刻機需要體積小、功率高而穩(wěn)定的光源。

隨著光源、曝光方式不斷改進，光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。目前行業(yè)內(nèi)使用最多的是第四代浸入式光刻機，最高制程可達7nm，在7nm之后芯片廠商必須使用最頂級的EUV光刻機。EUV光刻機主要技術(shù)優(yōu)勢如下：更高的光刻分辨率；生產(chǎn)效率高，光刻工藝簡單。但同時EUV光刻機也存在著許多問題：耗能巨大，能量利用率低；光學系統(tǒng)設計與制造復雜；光罩掩模版表面缺陷。

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

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